Litografický stroj na zarovnávanie masiek na fotoleptanie
Predstavenie výrobku
Expozičný svetelný zdroj využíva importovaný modul na tvarovanie UV LED a svetelného zdroja s malým teplom a dobrou stabilitou svetelného zdroja.
Obrátená svetelná štruktúra má dobrý efekt rozptylu tepla a blízky efekt svetelného zdroja a výmena a údržba ortuťovej výbojky sú jednoduché a pohodlné.Vybavený binokulárnym dvojpoľovým mikroskopom s vysokým zväčšením a 21-palcovým širokouhlým LCD displejom, možno ho vizuálne zarovnať
okulár alebo CCD + displej s vysokou presnosťou nastavenia, intuitívnym procesom a pohodlným ovládaním.
Vlastnosti
S funkciou spracovania fragmentov
Vyrovnanie kontaktného tlaku zaisťuje opakovateľnosť prostredníctvom snímača
Medzeru zarovnania a medzeru expozície je možné nastaviť digitálne
Používanie vstavaného počítača + dotykovej obrazovky, jednoduché a pohodlné, krásne a veľkorysé
Vytiahnite typ nahor a nadol, jednoduché a pohodlné
Podporte vystavenie vákuovému kontaktu, vystavenie tvrdému kontaktu, vystavenie tlakovému kontaktu a vystavenie blízkosti
S funkciou rozhrania nanotlače
Jednovrstvová expozícia s jedným kľúčom, vysoký stupeň automatizácie
Tento stroj má dobrú spoľahlivosť a pohodlnú demonštráciu, zvlášť vhodný pre výučbu, vedecký výskum a továrne na vysokých školách a univerzitách
Viac informácií
Špecifikácia
1. Expozičná plocha: 110 mm × 110 mm；
2. ★ Vlnová dĺžka expozície: 365 nm;
3. Rozlíšenie: ≤ 1 m;
4. Presnosť zarovnania: 0,8 m;
5. Rozsah pohybu skenovacieho stola vyrovnávacieho systému musí spĺňať aspoň: Y: 10 mm;
6. Ľavá a pravá svetelná trubica nastavovacieho systému sa môže pohybovať oddelene v smeroch X, ya Z, smer X: ± 5 mm, smer Y: ± 5 mm a smer Z: ± 5 mm;
7. Veľkosť masky: 2,5 palcov, 3 palcov, 4 palcov, 5 palcov;
8. Veľkosť vzorky: fragment, 2 ", 3", 4 ";
9. ★ Vhodné pre hrúbku vzorky: 0,5-6 mm a môže podporovať maximálne 20 mm vzorky (prispôsobené);
10. Expozičný režim: časovanie (režim odpočítavania);
11. Nerovnomernosť osvetlenia: ＜ 2,5 %;
12. Zarovnávací mikroskop CCD s dvojitým poľom: šošovka so zoomom (1-5 krát) + šošovka objektívu mikroskopu;
13. Pohybový zdvih masky vzhľadom na vzorku musí spĺňať aspoň: X: 5 mm;Y: 5 mm;: 6º；
14. ★ Hustota expozičnej energie: > 30 MW / cm2,
15. ★ Poloha zarovnania a poloha expozície fungujú v dvoch staniciach a servomotor dvoch staníc sa automaticky prepne;
16. Vyrovnanie kontaktného tlaku zaisťuje opakovateľnosť prostredníctvom snímača;
17. ★ Medzeru zarovnania a medzeru expozície je možné nastaviť digitálne;
18. ★ Má nano imprint rozhranie a proximity rozhranie;
19. ★ Ovládanie dotykovej obrazovky;
20. Celkový rozmer: Asi 1400 mm (dĺžka) 900 mm (šírka) 1500 mm (výška).
